前言：熟悉半導體領(lǐng)域的人都會(huì )了解硅晶圓，硅晶圓是半導體的核心，也是成本占比最高的材料，對純度也有超高要求，是一種為了制成半導體積體電路的原材料。本文淺析一下硅晶圓生產(chǎn)為何需要應用超純水設備。

　　硅晶圓作為半導體的核心部件，其在制造過(guò)程中需要應用超純水設備的原因有以下幾點(diǎn)：

　　1.對于清潔度的要求。硅晶圓制造過(guò)程中對水質(zhì)清潔度要求非常高。普通水中的雜質(zhì)和離子可能會(huì )影響到硅晶圓的品質(zhì)和性能，因此需要使用超純水來(lái)清洗和加工硅晶圓。

　　2.制作中需要使用表面活性劑來(lái)清洗硅晶圓表面的污垢和油脂。這些表面活性劑對水的純凈度要求非常高，應用高度純凈的超純水，使表面活性劑能夠充分發(fā)揮作用，有效清洗硅晶圓表面的污垢和油脂。

　　3.生產(chǎn)效率在硅晶圓制造過(guò)程中，使用超純水設備可以顯著(zhù)提高生產(chǎn)效率。高度純凈的超純水可以快速蒸發(fā)，使硅晶圓更快地干燥和冷卻，從而縮短生產(chǎn)周期和提高生產(chǎn)效率。

　　簡(jiǎn)而言之，就是為了提高硅晶圓質(zhì)量需要使用超純水設備。我國雖然半導體材料產(chǎn)業(yè)起步較晚，但是發(fā)展比較迅猛。那么什么樣的超純水設備才能產(chǎn)出高質(zhì)量的超純水呢？

　　目前常見(jiàn)的超純水設備核心工藝為“預處理+反滲透+EDI+拋光混床”的組合形式。該超純水設備具有高效低能、運行成本低，水資源利用率高、體積較小、維修量小，運行時(shí)間長(cháng)等優(yōu)點(diǎn)。這樣的超純水設備在運行時(shí)是不需要添加任何化學(xué)品的，不僅減少了化學(xué)品運輸問(wèn)題，同時(shí)降低了系統運行費用。并且設備不會(huì )有酸堿廢液產(chǎn)生，所以不需要酸堿中和池，一般情況下產(chǎn)出的濃水完全可以回收再利用，并且采用的設計結構相對靠緊，所以其占地非常小，可以為企業(yè)節省很多空間。

　　超純水設備可以更好的，連續的，穩定地制備高品質(zhì)的超純水，完全符合硅晶圓生產(chǎn)用水水質(zhì)標準。隨著(zhù)我國科技半導體產(chǎn)業(yè)的不斷發(fā)展與壯大，對于硅晶圓的產(chǎn)出質(zhì)量要求也會(huì )越來(lái)越高，所以對于使用超純水設備要求也會(huì )提高，這也將帶動(dòng)相關(guān)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

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　　編輯：新奇   技術(shù)：加菲