超純水設備在半導體行業(yè)中優(yōu)勢盡顯
半導體在集成電路、通信系統、光伏發(fā)電等領(lǐng)域應用廣泛，大部分的電子產(chǎn)品制造都與半導體息息相關(guān)，承載了重要的功能。無(wú)論是從科技發(fā)展還是經(jīng)濟發(fā)展來(lái)看，半導體創(chuàng )造的價(jià)值都不可估量，是衡量國家科學(xué)技術(shù)發(fā)展能力和發(fā)展潛力的重要因素之一。
半導體良率的提高不僅可以降低半導體產(chǎn)業(yè)的生產(chǎn)成本，還能顯著(zhù)提高產(chǎn)品的品質(zhì)和安全性能。超純水和半導體良率之間有密切的關(guān)聯(lián)性，它能用于清洗半導體材料以保證生產(chǎn)質(zhì)量。超純水中基本不含有任何有機物、微生物、金屬離子、細菌等物質(zhì)，用于清洗半導體能確保其不受雜質(zhì)污染。
超純水設備是生產(chǎn)超純水的專(zhuān)用產(chǎn)品，采用了“反滲透+EDI+拋光混床”的技術(shù)，生產(chǎn)出的超純水水質(zhì)能達到18MΩ*cm(25℃)。反滲透是指超純水設備中應用了反滲透膜技術(shù)，能實(shí)現對納米級物質(zhì)的分離去除，因而能有效分離出超純水中應該被去除的金屬離子、細菌、和顆粒雜質(zhì)等成分。同時(shí)，由于反滲透膜擁有強大的抗污染能力，因而在生產(chǎn)過(guò)程中，它能有效降低超純水設備的故障率，減少清洗次數，延長(cháng)設備的使用壽命。
EDI技術(shù)能對超純水進(jìn)行深度脫鹽，能實(shí)現帶電荷運行加速離子遷移，提高了超純水設備的脫鹽率。并且，EDI模塊運行無(wú)污染物質(zhì)產(chǎn)出，不會(huì )產(chǎn)生酸堿廢液，環(huán)保性能很好。拋光混床模塊的進(jìn)一步處理，則有效確保了超純水設備的出水水質(zhì)。
總而言之，超純水設備具有生產(chǎn)連續穩定、無(wú)污染、能耗低、工藝流程短、操作簡(jiǎn)單等優(yōu)勢，其還采用了智能程序，可以靈活進(jìn)行操作，性?xún)r(jià)比很高。
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編輯：新奇 技術(shù)：加菲
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