雙級反滲透系統回用硅片清洗廢水
近年來(lái),硅片產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅速。硅片是制造晶體管和集成電路的原材料。換句話(huà)而言,就是硅片是芯片制造的原材料。通常是晶硅的切片,通過(guò)光刻和離子注入的方法制成各種半導體器件,是半導體工業(yè)中重要的原材料。隨著(zhù)硅片工業(yè)的蓬勃發(fā)展,環(huán)境污染問(wèn)題隨之而來(lái),產(chǎn)生了大量的廢水。生產(chǎn)廢水主要來(lái)自多晶硅錠切片過(guò)程的清洗環(huán)節。多晶硅錠經(jīng)混酸表面處理后,在清洗過(guò)程中產(chǎn)生含酸廢水。由于表面處理是硝酸和氫氟酸的混合酸,清洗廢水中的主要污染物是pH、氟化物和鈣鹽。
采用雙級反滲透系統對清洗廢水進(jìn)行深度處理。通過(guò)預處理降低鈣離子和氟離子含量后,可滿(mǎn)足超濾系統進(jìn)水要求。廢水進(jìn)入超濾系統,超濾產(chǎn)水進(jìn)入一級反滲透處理系統,產(chǎn)水進(jìn)入產(chǎn)水箱,濃水進(jìn)入二級反滲透系統進(jìn)一步回收。
膜法硅片清洗廢水處理工藝:
硅片清洗廢水→預處理→超濾→一級反滲透→二級反滲透→產(chǎn)水
兩級反滲透系統法回用硅片清洗廢水中醋酸的過(guò)程是純物理常溫操作工藝,無(wú)化學(xué)反應,能耗低。整套反滲透系統可設計在線(xiàn)再生清洗排污裝置,降低勞動(dòng)強度和生產(chǎn)成本,提高生產(chǎn)效率。反滲透系統總回收率控制在75%左右,實(shí)現有效回收。膜元件填充面積大,系統占地面積小,便于技術(shù)改造、擴建或新建項目,降低了生產(chǎn)成本和投資。
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