半導體的生產(chǎn)需要經(jīng)過(guò)8個(gè)主要工序。超純水主要用于半導體制造中某些工序前后的清洗。例如，在蝕刻工藝之后，切割晶圓并用超純水清洗殘余碎片?；蛘?，在離子注入過(guò)程之后，清潔殘余離子。此外，超純水還可用于晶圓拋光或晶圓切割。

　　超純水是一種用于半導體制造過(guò)程中的洗滌劑。那么，在半導體生產(chǎn)中使用超純水會(huì )有什么影響呢?在用納米超精細工藝處理半導體時(shí)，如果在各種工藝前后留下一個(gè)小顆粒，則會(huì )導致誤差。因此，在各種工藝前后用超純水清洗晶圓可以確保清潔度并提高半導體生產(chǎn)率(輸出)。

　　隨著(zhù)半導體工業(yè)的不斷發(fā)展，對清潔水的電導率、離子含量、TOC、do和顆粒物的要求越來(lái)越嚴格。由于超純水在許多指標上對半導體的要求很高，因此半導體行業(yè)的超純水與其他行業(yè)的用水要求不同。半導體行業(yè)對超純水有極其嚴格的水質(zhì)要求。目前，我國常用的超純水標準有國家標準《電子級水》(GB/T 11446.1-2013)和美標。

　　在半導體生產(chǎn)過(guò)程中，硼是一種p型雜質(zhì)。過(guò)量會(huì )使n型硅反轉，從而影響電子和空穴的濃度。因此，在超純水工業(yè)中應充分考慮硼的去除。硼離美標中e1.3中要求小于0.05。如果硼離子含量能夠達到較低的指標，則必然會(huì )提高半導體的性能。

　　Huncotte系統選用核級樹(shù)脂，可通過(guò)獨特的靶向離子交換樹(shù)脂有效控制系統出水的硼離子含量。采用IPC-MS檢測硼離子含量，并對硼離子流出物進(jìn)行分析≤ 0.005μG/L遠低于美標E1.3中要求的硼離子含量。

　　今日，萊特萊德集裝箱海水淡化設備已出廠(chǎng)驗收。萊特萊德集裝箱海水淡化設備解決了空間限制，安裝方便、體積小、操作簡(jiǎn)單。

　　目前，在水資源緊缺的情況下，加強海水淡化的國產(chǎn)化技術(shù)研發(fā)，在水資源再利用方面，推廣海水淡化設備顯得尤為重要，并且現代海水淡化設備也漸漸步入了現代這個(gè)快速發(fā)展的時(shí)代，其有效性和可靠性也越來(lái)越被人們所認可。

　　集裝箱式海水淡化設備的優(yōu)勢如何?

　　1、集裝箱式海水淡化設備采用反滲透分離技術(shù)進(jìn)行海水淡化脫鹽，工藝流程和操作參數通過(guò)計算機進(jìn)行優(yōu)化設計。

　　2、海水淡化脫鹽工藝無(wú)需海水加溫，運行于常溫下，無(wú)相變現象，因此能耗低，制水成本低。

　　3、設計時(shí)充分考慮船舶的特殊性，體積小，重量輕，占用省、安裝方便、適應性強，可在狹小的艙室內安裝。機架管路、管件采用316不銹鋼及耐蝕材料制作。

　　4、集裝箱式海水淡化設備操作簡(jiǎn)單，維修方便，只要有電、有海水，啟動(dòng)后就能立即提供淡水。

　　萊特萊德集裝箱式海水淡化設備采用超濾膜裝置對海水進(jìn)行預處理，然后把含有鹽類(lèi)的海水通過(guò)反滲透裝置加壓，除去海水中所含鹽、菌等有機物質(zhì)，并進(jìn)行殺菌處理。同時(shí)也能緩解偏遠地區居民對飲用水的需求。