超純水處理設備出水保證芯片良品率

時(shí)間：2023-08-16

　　芯片的制造條件十分苛刻，芯片制造有上千道工序，在上千道工序的累計下，芯片的總良品率一定會(huì )慘不忍睹。所以，在芯片制造的過(guò)程中，有30%的時(shí)間都在做一件事情，就是“洗澡”，專(zhuān)業(yè)名字叫濕法清洗。

　　為芯片“洗澡”要用的是超純水，簡(jiǎn)單的說(shuō)就是純到連魚(yú)都活不了的純水。把自來(lái)水變成超純水，會(huì )損失30-40%左右的水，水的電阻率會(huì )達到18.2MΩ.cm，超純水才能在芯片各個(gè)生產(chǎn)線(xiàn)上給芯片“洗澡”。

　　超純水是一般工藝很難達到的程度，采用預處理、反滲透技術(shù)、EDI處理以及后級拋光處理四大步驟，電阻率方可達到18.2MΩ.cm。

　　超純水的生產(chǎn)步驟如下：

　　1、預處理

　　包括砂濾、多介質(zhì)過(guò)濾、軟化、加氯、調節pH、活性碳過(guò)濾等。過(guò)濾可除去1～20微米大小的顆粒，軟化和調節pH可防止反滲透膜結垢，加氯是為了殺菌。

　　2、脫鹽：包括反滲透、EDI系統。

　　反滲透是滲透現象的逆過(guò)程,在濃溶液上加壓力,使溶劑從濃溶液一側通過(guò)半透膜向稀溶液一側反向滲透，脫鹽可達98%，并能除去99%的細菌顆粒和溶解在水中的有機物。

　　EDI的作用就是通過(guò)除去電解質(zhì)(包括弱電解質(zhì))的過(guò)程，將水的電阻率從0.05～1.0MΩ·cm提高到5～16MΩ·cm。

　　3、精處理

　　樹(shù)脂上可交換的陰離子如OH離子被置換到水中,并與水中的H離子結合成水，即超純水精處理，包括紫外線(xiàn)殺菌、終端膜過(guò)濾和終端超濾。紫外線(xiàn)殺菌是因生物體的核酸吸收紫外線(xiàn)光的能量而改變核酸自身結構,破壞核酸功能而使細菌死亡。各種膜過(guò)濾能除掉直徑大于0.2微米的顆粒，但對于清除有機物則不如反滲透和超濾有效。

　　萊特萊德超純水處理設備結構緊湊、管理分布合理、簡(jiǎn)單，是一臺獨立的一體化智能系統。在芯片生產(chǎn)中，生產(chǎn)出的超純水可保證芯片良品率，是優(yōu)質(zhì)的選擇。

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　　編輯：柒柒技術(shù)：米

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